雷浩，男，博士研究生，副研究员，硕士生导师。1997年毕业于西北大学化学系获学士，1998年毕业于中国科学科技大学获硕士学位。现就职于中国科学院金属研究所。主要研究硬质涂层与功能薄膜的制备及其应用。

2003-2004山梨大学，博士后、中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室，研究助理；

2007-2010日本东京工艺大学，特别研究员；

2010-2011美国弗吉尼亚大学，博士后；

2011-至今中国科学院金属研究所，所优秀学者，副研究员。

代表论著

(1) C.L. Jiang, Z.L. Pei, Y.M. Liu, H. Lei, Jun Gong, Chao Sun, "Determination of the thermal properties of AlB2-type WB2", Appl. Surf. Sci.

(2) Hao Lei, Meihan Wang, Yoichi Hoshi, Takayuki Uchida, Shinichi Kobayashi, Yutaka Sawada, "Comparative studies on damages to organic layer during the deposition of ITO films by various sputtering methods ", APPL Surf. Sci.

(3) 雷浩，王美涵，肖金泉，宫骏，孙超，“有机器件中低温低损伤磁控溅射沉积透明导电薄膜技术的研究进展”，真空科学与技术学报，第33卷第11期

(4) Meihan Wang, Hao Lei, Zhaoxia Hou, Shaohong Wang, "Heat capacities and standard molar enthalpy of formation of pyrimethanil maleic salt and pyrimethanil fumaric salt", Journal of Thermal Analysis and Calorimetry,

(5) Meihan Wang, Hao Lei, Yoshiyuki Seki, Shigeyuki Seki, Yutaka Sawada, Yoichi Hoshi, Shaohong Wang, Lixian Sun, "Thermal crystallization kinetic and electrical properties of partly crystallized amorphous indium 氧化物 thin films sputtering deposited in the presence or the absence of H₂O vapor", J. Therm. Anal. Calorim.

(6) Yoji Yasuda, Hao Lei, Yoichi Hoshi, "New 氧 radical source using selective sputtering of oxygen atoms for high rate deposition of TiO2 films", J. Vac. Sci. Technol

(7) Y. Seki, Y. Sawada, M.H. Wang, H. Lei, Y. Hoshi, T. Uchida, "Electrical properties of 锡doped indium 氧化物 thin films prepared by a dip coating", Ceramics International

学术活动

（1）低温低损伤磁控溅射技术及其在制备有机光电器件透明电极中的应用，TFC’13全国薄膜技术学术研讨会，2013年10月，宁波市

获得专利

(1) 雷浩，肖金泉，宫骏，孙超，在连续纤维丝/条带表面高速均匀沉积薄膜的装置

(2) 雷浩，肖金泉，宫骏，孙超，在连续纤维丝/条带表面高速均匀沉积薄膜的装置和方法

(3) 雷浩，肖金泉，宫骏，孙超，一种低温低损伤多功能复合镀膜的装置