脱
卤化氢反应是从
有机化合物分了中脱掉卤化氢的反应。在
强碱作用下,
卤代烷脱去HX生成
烯烃。在
亲核取代中同时伴随着消除反应的发生,取代产物或消除产物那种为主,取决于卤代的结构及碱的浓度。没有碱存在时,主要得取代产物;随着碱浓度增大,消去产物增多;叔卤代烷比仲卤代烷更容易发生消去。
卤代烷与强碱的醇溶液共热,主要发生消除反应,脱去一份子卤化氢生成烯烃。卤代烷脱卤化氢时,氢原子主要是从含氢较少的相邻
碳上脱去,这是一条经验规律,称为Saytzeff规则。
反应的决速步骤是碳正离子的形成,反应
速率仅与反应物浓度有关,v=k[RX],在
动力学上为一级反应,是单分子反应,用E1表示。可见,E1和S都是通过同一个碳正离子进行反应,因此,在反应进程中,两种反应相互竞争。通常高温有利于消除,因为消除质子生成
烯烃需要更高的活化能;但在
极性溶剂及没有
强碱存在时,S反应快,且产物稳定,主要得取代产物。
E2:反应体系中若有碱存在,则随着碱浓度的提高,消除产物增多。这说明反应速度不仅与
卤代烷的浓度有关,而且还与碱的浓度有关,在动力学上表现为二级反应,反应为双分子过程,v=k[RX][RO],用E2表示。
E2反应中,碱进攻
卤代烃的β—H,同时溴带着一对电子离开,形成一个过渡态,新键的形成和旧键的断裂同时进行。反应速度取决于反应物浓度和碱的浓度。
比较S和E2,S反应中,碱进攻中心
碳,试剂的亲核性强,有利于进行S反应;而E2反应中,碱进攻β—H,β—H的数目多、酸性强、碱的碱性强有利于E2反应。因此,S和E2常常同时发生。
考察不同
卤代烷R-X的反应速度,发现:对不同
烷基的反应活性为,
烯丙基卤、叔卤\u003e仲卤\u003e伯卤代烷;对不同
卤族元素的反应活性为,RI\u003eRBr\u003eRCl;对不同的β—H反应活性为:3H\u003e2H\u003e1H。因此,当分子中有不同β—H时,消除可能有多种取向,因而可得多种
烯烃。
实验证明,在多数情况下,主要生成热力学较稳定的烯烃——取代基较多的Saytzeff烯烃,代烃消除主要生成取代基较少的Hofmann烯烃。碱的体积增大,空间位阻增大,试剂容易进攻空间位阻较小的β-H,Hofmann烯烃量增加。试剂的碱性增强,Hofmann烯烃的量增加。另外,卤代烯烃消除时总是倾向于生成
共轭二烯烃;邻二
卤代物或偕二卤代物在
氢氧化钾/醇溶液中加热失去2分子HX生成炔;
脂环烃邻二卤代物则主要生成共轭双烯;
乙烯卤化物反应困难,需要更强的碱。
在E2反应中,C-H键和C-X键逐渐断裂,C=C双键逐渐形成,碳由sp3→sp2,p轨道形成双键,只有当两个碳上的p轨道相互平行时才能最大程度地重叠成键。因此,消除时,H-C-C-X三个键四个原子必须在同一平面上,即H,X在C-C键的同侧(顺式消除syn)或异侧(
反式,反式-己二烯二酸消除,anti)。
大量实验事实证明,多数E2反应为反式消除,因反式消除时,反应物构象为较稳定的交叉式构象。在某些化合物中,由于环的刚性,不能使两个消除基团达到反式共平面关系,因此消除速度很慢。这时,顺式消除反而有利。如下列两个化合物,前者的消除速度是后者的100倍。
从空间关系看,前者可以发生顺式消除,而后者反式消除的平面关系很差,反应速度慢。E1消除在
立体化学上没有空间定向性,可得顺式和反式消除的
混合物。
对一级
卤代烷,S反应的
速率很快,一般不发生E2反应。当β位上有活性氢如烯丙氢、基氢时,则会提高E2反应速率;β—C上有侧链时由于空间位阻E2产物也会增加。二级卤代烷有空间位阻,S反应速率很慢,有利于发生消除反应。三级卤代烷一般倾向于发生单分子反应,主要得E1的消除产物。
对三级卤代烷的
溶剂解,往往得到S和E1的混合物。烷基的体积增大,有利于生成消除产物。随着β—C取代基的增多,体积增大,空间位阻增大,化合物容易生成C,以减少空间
张力。如发生S反应,空间张力又增大;而发生E1发应,生成
烯烃,减少了空间张力。因此,取代基的空间体积越大,越有利于生成消除产物。
一般来说,试剂的碱性强、浓度大、与质子的结合能力强,有利于E2;试剂体积大,不容易接近中心
碳,容易与β-H接近,有利于E2;试剂的亲核性强,易发生S反应。
I是强酸的
共轭碱,是
弱碱,且其体积大,亲核性强,有利于取代,主要得取代产物;而CHCOO是
弱酸的共轭碱,是
强碱,有利于消除,主要得消除产物。
离去基团对E2、E1反应
速率均有一定影响,基团越容易离去,反应速率越快。RI\u003eRBr\u003eRCl。离去基团只影响反应速率,不影响产物的比例。