研磨盘是用于涂敷或嵌入磨料的载体，使磨粒发挥切削作用，同时又是研磨表面的成形工具。能旋转的圆盘、圆柱、圆锥体、平板、油石、薄板、管子、环圈和特制的定形研磨盘，都可作研磨工具。

研磨盘的材料、应较工件材料软，以使研磨粉粒能嵌入研磨盘的表面，研磨盘用生铁、软铜、紫铜、黄铜、铅、硬木制成。铅和硬木只是在使工件研磨具有最后尺寸后，为加光而用的。

研磨剂中最硬的是金刚石粉；用金刚石粉研磨火硬化的硬件。但是金刚石粉的价格甚贵，因此很少使用。次硬的是碳化硅。再其次是刚玉粉、碳化硅和铁丹粉。最常用的是金刚砂。

用不同的研磨盘，则要求用不同种类的润滑剂。生铁研磨盘需用煤油或汽油作润滑剂。软钢研磨盘——用机油。铜研磨盘——用机油、乙醇、碳酸水。凡对铜表面的质量要求特别高时，就用酒精稀释的滑石或用凡士林混合的铁丹粉作润滑剂。研磨铝时，用甲苯稀释的硅藻土和硬脂酸或用木质油稀释的硅藻土作润滑剂。研磨铜合金时，用机油和脂肪作润滑剂，把选定的润滑液和研磨粉混合，然后把混合物仔细地涂擦。

研磨盘本身在研磨过程中与工件是相互修整的，研磨盘本身的几何精度按一定程度“转写”到工件上，故要求研磨盘的加工面有高的几何精度。对研磨盘的主要要求有：

（1）材料硬度一般比工件材料低，组织均匀致密，无杂质、异物、裂纹和缺陷，并有一定的磨料嵌人性和浸含性。

（2）结构合理，有良好的刚性、精度保持性和耐磨性。其工作表面应具有较高的几何精度。

（3）排屑性和散热性好。

为了获得良好的研磨表面，有时需在研磨盘面上开槽。槽的形状有放射状、网格状、同心圆状和螺旋状等。槽的形状、宽度、深度和间距等要根据工件材料质量、形状及研磨面的加工精度而选择。在研具表面开槽有如下的效果：

（1）可在槽内存储多余的磨粒，防止磨料堆积而损伤工件表面。

（2）在加工中作为向工件供给磨粒的通道。

（3）作为及时排屑的通道，防止研磨表面被划伤。

将金刚石或氮化硼磨料与铸铁粉末混合后，烧结成小薄块，或用电铸法将磨粒固着在金属薄片上，再用环氧树脂将这些小薄块粘贴在研磨盘上可制成固着磨料研磨盘。固着磨料研磨盘适用于精密研磨陶瓷、硅片、水晶等脆性材料，研磨盘表面精度保持性好，研磨效率高。

晶片研磨过程的控制，是以控制研磨盘转速与所施加的荷重为主。右图所示为研磨过程中研磨压力与时间的关系。首先研磨压力需由小慢慢增加(图中Ⅰ区)，以使研磨料能够均匀散布，及去除晶片上的高出点。稳定态(图中Ⅱ区)的研磨压力一般在9.8kPa(100gf/cm²)左右。而研磨的时间约为10~15min。在研磨结束前也需慢慢将研磨压力降低(图中Ⅲ区)。晶片的研磨速率一般是随以下参数而增加：

（1）研磨压力的增加；

（2）研磨浆料流速的增加；

（3）研磨浆料内研磨粉的增加；

（4）研磨盘转速的增加。

研磨制程的完成，是以定时或定厚度(磨除量)为主。其中定厚度的方法，是利用一厚度探针，来感应晶片的厚度，一旦达到设定的厚度，机台便会慢慢减压病而停止研磨。