甲锗是锗烷(GenH2n+2)中最简单的一种,分子式为GeH4。和同族的
甲烷、甲
硅烷一样,甲锗烷也是正四面体结构。甲锗烷在空气中燃烧生成二氧化锗和水。甲锗烷在600K时分解为锗和
氢气。这种对热不稳定性被用于半导体工业中,即有机金属化学气相沉积法(MOVPE)。由于甲锗烷毒性较大,某些
有机锗化合物(如
异丁基锗)可以替代甲锗烷,应用于MOVPE中。
甲锗烷在600K时分解为锗和
氢气。这种对热不稳定性被用于半导体工业中,即有机金属化学气相沉积法(MOVPE)。由于甲锗烷毒性较大,某些
有机锗化合物(如
异丁基锗)可以替代甲锗烷,应用于MOVPE中。
化学还原法:硼
氢化钠、
硼氢化钾、硼
氢化锂、
氢化铝锂、氢化铝钠、氢化锂、氢化钠或
二氢化镁还原锗、
氯化锗或二氧化锗。这类反应既可在
水溶液中进行,也可在有机
溶剂中进行。实验室中可通过含氢负离子的化合物与Ge(IV)化合物反应得到。
电化学还原法:锗作阴极,或镉作正极。反应时阴极产生甲锗烷和
氢气,阳极生成钼或镉的
氧化物。